快科技6月2日消则，之前咱们说过，不必EUV光刻机也能作念出5nm。
前段时分，寰宇上就有一种“罕见”5nm的音尘传出。这种5nm领受了扫数不同样的技艺道路，遁藏了EUV光刻机的依赖，领受一种步进扫描光刻机，通过多重曝光竣事5nm线宽。
那莫得EUV光刻机，3nm有戏吗？
最新报谈指出，照旧这家5nm品牌，最近依然狡计推出3nm工艺制程技艺的AP（期骗处理器），贪图是在2025年问世。
该芯片领受全环绕栅极（Gate-All-Around，GAA）技艺能有用镌汰电流败露并进步性能，是台积电、三星等在先进制程上领受的关键技艺。
仅仅，这项计较却靠近显耀的挑战。 市集多数质疑，到底能不可行。
之前，他们等于领受了通过使用深紫外光（DUV）曝光机的屡次曝光，来达成5nm制程的量产。
市集觉得，在3nm米制程上也可能采取访佛的方法。 但是，相较于EUV，领受DUV的屡次曝光格式会显耀增多制程步履，这不可幸免地会导致良率和出产效果的下跌。
是以，改日的问题的中枢，就看我方能不可贬责EUV光刻机了。
